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        半導體產業中如何使用臭氧

        來源:www.rocknrollrunning.com 作者:同林臭氧 時間:2020-05-29 11:31

        半導體產業中如何使用臭氧

        近年來,在半導體工業中,對臭氧應用的興趣大大增加。迄今為止,已經確立了將臭氧用于清潔晶片的用途。利用了臭氧在水相中氧化有機和金屬污染物的事實。
        臭氧在半導體工業中的應用包括
        +濕法清潔
        +TEOS 
        +CVD 
        +干洗
        +疏水性

        硅片清洗過程中的主要流程,通過臭氧水在硅片表面形成氧化膜,然后利用HF(氟化酸)去除氧化膜,并使用SC1、SC2去除顆粒及金屬污染,最后,再使用臭氧水在硅片表面形成氧化膜,防止硅片表面再受污染。

        北京同林提供高濃度臭氧發生器,臭氧濃度可達300mg/L,臭氧水濃度可50ppm~100ppm。

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